| Yazarlar (4) |
Doç. Dr. Abdullah AKKAYA
Kırşehir Ahi Evran Üniversitesi, Türkiye |
Osman Kahveci
Erciyes Üniversitesi, Turkey |
|
Sedanur Güler
Erciyes Üniversitesi, Turkey |
|
Enise Ayyıldız
Erciyes Üniversitesi, Turkey |
| Özet |
| Abstract This study comprehensively examines the structural, electrical, and electrochemical properties of Cu- and Ag-doped HfO2 thin films deposited via the co-sputtering method. The dopant concentrations were precisely controlled by varying the DC magnetron sputtering power, allowing a systematic evaluation of their impact on film characteristics... |
| Anahtar Kelimeler |
| Co-sputtering | HfO doping 2 | Potentiodynamic polarization analyses | TLM | XPS |
| Makale Türü | Özgün Makale |
| Makale Alt Türü | Uluslararası alan indekslerindeki dergilerde yayımlanan tam makale |
| Dergi Adı | Journal of Physics and Chemistry of Solids |
| Dergi ISSN | 1879-2553 Wos Dergi Scopus Dergi |
| Dergi Tarandığı Indeksler | |
| Makale Dili | İngilizce |
| Basım Tarihi | 03-2025 |
| Cilt No | 202 |
| Sayı | 1 |
| Doi Numarası | 10.1016/j.jpcs.2025.112686 |
| Atıf Sayıları |
