| Yazarlar (4) |
Doç. Dr. Abdullah AKKAYA
Kırşehir Ahi Evran Üniversitesi, Türkiye |
Osman Kahveci
Erciyes Üniversitesi, Türkiye |
|
Sedanur Güler
Erciyes Üniversitesi, Türkiye |
|
Enise Ayyıldız
Erciyes Üniversitesi, Türkiye |
| Özet |
| Abstract This study comprehensively examines the structural, electrical, and electrochemical properties of Cu- and Ag-doped HfO2 thin films deposited via the co-sputtering method. The dopant concentrations were precisely controlled by varying the DC magnetron sputtering power, allowing a systematic evaluation of their impact on film characteristics... |
| Anahtar Kelimeler |
| Co-sputtering | HfO doping 2 | Potentiodynamic polarization analyses | TLM | XPS |
| Makale Türü | Özgün Makale |
| Makale Alt Türü | SSCI, AHCI, SCI, SCI-Exp dergilerinde yayınlanan tam makale |
| Dergi Adı | Journal of Physics and Chemistry of Solids |
| Dergi ISSN | 0022-3697 Wos Dergi Scopus Dergi |
| Dergi Tarandığı Indeksler | SCI |
| Dergi Grubu | Q2 |
| Makale Dili | Türkçe |
| Basım Tarihi | 07-2025 |
| Cilt No | 202 |
| Sayı | 1 |
| Sayfalar | 112686 / 0 |
| Doi Numarası | 10.1016/j.jpcs.2025.112686 |
| Makale Linki | https://doi.org/10.1016/j.jpcs.2025.112686 |
| Atıf Sayıları |
